1、基片尺寸：6吋及以下；

2、样品高度：≤6mm；

3、反应腔：氮气保护的高温密封系统;

4、腔体烘烤温度：RT～200℃可控，控制精度±1℃;

5、沉积模式：连续模式、停流模式;

6、前驱体输运系统：标准 2 路前驱体管路，1 路为常温源，1 路为加热源；

7、前驱体源瓶：50cc 不锈钢标准源瓶；

8、沉积均匀性：Al2O3 均匀性≤±1%；

9、系统总控：人机界面及全自动控制程序；

10、电源 ：220VAC/50Hz，3.3KW；

11、机器重量：400kg；

12、机器尺寸：W1110 mm ×D610 mm ×H1210 mm。