基本参数

1、可镀尺寸：6吋及以下；

2、样品台旋转：自转速度0～20转/分，可加热；

3、靶基距：100mm 至 150mm，调节量为50mm；

4、操作方式：全自动控制方式；

5、系统总控：人机界面及控制程序；

6、电源：220VAC/50Hz，8KW；

7、机器重量：630kg；

8、机器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm。

磁控电源及溅射镀膜室

1、磁控靶：≥3英寸永磁靶3套，靶头角度0～25°可调，配置靶挡板；

2、靶工作模式：单靶溅射，3靶共溅，3靶交替溅射；

3、电源：带3台直流电源1KW、RF射频电源0.6KW、负 500V偏压电源；

4、真空室：双真空室结构，圆柱形304不锈钢，前开门D 型腔体；伺服电机电缸驱动送样系统；

5、真空度：主真空室真空度≥3×10-5 Pa、副真空室真空度 ≥1×10-4 pa；

6、抽气时间：大气压~3*10-4 Pa≤40min；

7、恢复工作真空时间：≤35分钟左右（新设备充干氮气）；

8、漏率：关机12小时真空度≤10Pa。

测量系统

1、真空计：数显复合真空计1套，测量低真空和高真空；

2、带四路气体流量控制器及显示仪。

冷却系统

1、配备冷却水循环系统：内部用不锈钢水槽，水冷机设有水流报警系统；

2、保护系统：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护。