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基本参数

1、可镀尺寸：4吋及以下；

2、样品台旋转：自转速度0～20转/分，可加热；

3、靶基距：调节衬底与靶材间距，调节量为50mm；

4、操作方式：半自动操作方式；

5、系统总控：人机界面及控制程序；

6、电 源：220VAC/50Hz，7KW；

7、机器重量：600kg；

8、机器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm。

磁控电源及溅射镀膜室

1、磁控靶：≥2英寸永磁靶2套，靶头角度0-25°可调，配置靶挡板；

2、靶工作模式：单靶溅射，2靶共溅，2靶交替溅射；

3、磁控电源：带射频电源和直流电源各1套；

4、真空室：圆柱形304不锈钢，前开门D 型腔体；

5、极限真空：5.0×10-5Pa;

6、工作真空：7.0×10-4Pa;

7、抽气时间：大气压~3*10-4 Pa≤40min；

8、恢复工作真空时间：≤35分钟左右（新设备充干氮气）；

9、漏率：关机12小时真空度≤10Pa。